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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

在用玻璃標(biāo)定板標(biāo)定時(shí)候都有遇到過(guò)標(biāo)定板反光問(wèn)題，有時(shí)候不能用背光源，只能用前置光源，光源投射下來(lái)，玻璃本身就是反光材料，燈光一亮反光嚴(yán)重，甚至導(dǎo)致無(wú)法標(biāo)定板。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

光致抗蝕劑也被稱為光致抗蝕劑。掩模板上的圖案被轉(zhuǎn)移到晶片表面頂層的光致抗蝕劑上，并且在后續(xù)工藝中保護(hù)下面的材料(蝕刻或離子注入)。光致抗蝕劑由光敏樹(shù)脂、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑等組成。其中，光敏樹(shù)脂是光刻膠的關(guān)鍵成分。 

掩膜（MASK）就是指單片機(jī)設(shè)計(jì)掩膜就是指程序流程統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)早已制成光刻版，在單片機(jī)設(shè)計(jì)生產(chǎn)制造的全過(guò)程中把程序流程做進(jìn)來(lái)。優(yōu)勢(shì)是：程序流程靠譜、低成本。缺陷：大批量規(guī)定大，每一次改動(dòng)程序流程就必須再次做光呆板，不一樣程序流程不可以一起生產(chǎn)制造，交貨期長(zhǎng)。當(dāng)提取道路或者河流，或者房屋時(shí)，通過(guò)一個(gè)n*n的矩陣來(lái)對(duì)圖像進(jìn)行像素過(guò)濾，然后將我們需要的地物或者標(biāo)志突出顯示出來(lái)。 

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過(guò)程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學(xué)圖像處理中，掩模可以是薄膜、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時(shí)也使用多值圖像。