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電子束蒸發(fā)鍍膜機的技術特點
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1、樣品臺:水冷樣品座,樣品座高度可調(diào),便于調(diào)整蒸距。調(diào)節(jié)范圍:樣品臺與基片的可調(diào)節(jié)范圍300mm.
2、電子槍:電子槍功率6kW可調(diào)(滿足金屬、絕緣材料高速蒸發(fā))4穴水冷坩堝(適用于對多種材料進行蒸發(fā)鍍制多層膜且膜層較薄工藝中應用效果好)。為保持E型電子槍蒸發(fā)絕緣穩(wěn)定性,配制高品質(zhì)束流掃描控制器,具有多種供控制程序進行選擇的預設模式,方便于操作、實驗數(shù)據(jù)積累。顯像管中控制電子運動的電偏轉板與聚焦電子的聚焦線圈,對應于增速器中控制粒子運動軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件,如導向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。配套相應蒸發(fā)坩堝內(nèi)襯,以適應不同材料,確保蒸發(fā)速率穩(wěn)定性,重復性.
電子束鍍膜機的特點/用途介紹
以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)電子束,歡迎新老客戶蒞臨。
產(chǎn)品特點/用途:
?設備一體化設計,占地面積小,性能穩(wěn)定,性價比高,使用維護成本低;
?適用于實驗室制備金屬單質(zhì)膜、半導體膜、有機膜,也可用于生產(chǎn)線前期工藝試驗等;
?適用于制備光學薄膜、導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜等。