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帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

大功率電子槍的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關鍵技術。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應加熱。它的設備較簡單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。

鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

光學鍍膜材料的原材料，絕大部分屬于儲量非常小的稀有金屬。滿足IPC-CC-830B涂敷過程中不存在任何液態(tài)，無普通液體防護涂層的難以避免的流掛，氣孔、厚薄不均等嚴重缺陷。這些稀有金屬隨著科技的發(fā)展，其需求長期看漲。隨著鍍膜技術的不斷推廣，光學鍍膜技術的應用領域也在不斷拓寬，隨著我們生活水平的提高，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將為我們的生活帶來更多的精彩。

粗抽泵：從大氣壓下開始抽氣，并將系統(tǒng)壓力抽到另一真空泵開始工作的真空泵。如真空鍍膜機中的滑閥泵，就是粗油泵。

　　(4)維持泵：在真空系統(tǒng)中，氣量很小時，不能有效地利用前級泵。為此配置一種容量較小的輔助泵來維持主泵工作，此泵叫維持泵。如擴散泵出口處配一臺小型旋片泵，就是維持泵。

只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質量。

真空PVD鍍膜基本步驟 

 前處理工藝褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾 鍍膜工藝抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐 后處理工藝 

清洗：確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質量；

抽真空：將真空室內的殘余氣體抽走加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面鍍膜：沉積膜層冷卻：避免工件氧化變色