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1、什么是外延和外延片?
外延也稱為外延生長,是制備高純微電子復(fù)合材料的一工藝過程,就是在單晶(或化合物)襯底材料上淀積一層薄的單晶(或化合物)層。新淀積的這層稱為外延層。淀積有外延層的襯底材料叫外延片。
2、哪些材料可以用作生長外延層的襯底材料,它們各自有哪些優(yōu)缺點?
用得蕞廣泛的襯底材料是申化家,可用于生長外延層GaAs、GaP、GaAlAs、InGaAlP,其優(yōu)點是由于GaAs的晶格常數(shù)比較匹配可制成無位錯單晶,加工方便,價格較便宜。缺點是它是一種吸光材料,對PN結(jié)發(fā)的光吸收比較多,影響發(fā)光效率。
磷化家可生長GaP:ZnO、GaP:N、GaAs、GaAlAs:N以及InGaAlP的頂層,其優(yōu)點是它是透明材料,可制成透明襯底提高出光效率。
生長InGaN和InGaAlN的襯底主要有藍(lán)寶石(Al2O3)、碳化硅和硅。藍(lán)寶石襯底的優(yōu)點是透明,有利于提高發(fā)光效率,目前仍是InGaN外延生長的主要襯底。缺點是有較大的晶格失配;硬度高,造成加工成本高昂;熱導(dǎo)率較低,不利于器件的熱耗散,對制造功率led不利。碳化硅襯底有較小的晶格失配,硬度低,易于加工,導(dǎo)熱率較高,利于制作功率器件。
藍(lán)光LED通常采用Al2O3襯底,LED模組經(jīng)銷商,Al2O3襯底硬度很高、熱導(dǎo)率和電導(dǎo)率低,如果采用正裝結(jié)構(gòu),一方面會帶來防靜電問題,另一方面,在大電流情況下散熱也會成為較為主要的問題。
同時由于正面電極朝上,會遮掉一部分光,發(fā)光效率會降低。
大功率藍(lán)光LED通過芯片倒裝技術(shù)可以比傳統(tǒng)的封裝技術(shù)得到更多的有效出光。
現(xiàn)在主流的倒裝結(jié)構(gòu)做法是:首先制備出具有適合共晶焊接電極的大尺寸藍(lán)光LED芯片,同時制備出比藍(lán)光LED芯片略大的硅襯底,LED模組供應(yīng)商,并在上面制作出供共晶焊接的金導(dǎo)電層及引出導(dǎo)線層(超聲金絲球焊點)。
然后,利用共晶焊接設(shè)備將大功率藍(lán)光LED芯片與硅襯底焊接在一起。
這種結(jié)構(gòu)的特點是外延層直接與硅襯底接觸,硅襯底的熱阻又遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于藍(lán)寶石襯底,LED模組定制,所以散熱的問題很好地解決了。
由于倒裝后藍(lán)寶石襯底朝上,成為出光面,藍(lán)寶石是透明的,因此出光問題也得到解決。
以上就是LED技術(shù)的相關(guān)知識,相信隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,未來的LED燈回越來越高i效,使用壽命也會由很大的提升,為我們帶來更大便利。
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