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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

在真空鍍膜機運轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，有機高分子鍍膜設(shè)備銷售，工作中應(yīng)隨時注意水壓。

在離子轟擊和蒸發(fā)時，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，有機高分子鍍膜設(shè)備，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進行，有機高分子鍍膜設(shè)備多少錢，并要戴橡皮手套。

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真空鍍膜設(shè)備膜層灰暗及發(fā)黑：(1)真空度低于0.67Pa。應(yīng)將真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氣的純度低于99.9％。應(yīng)換用純度為99.99％的氣。(3)充氣系統(tǒng)漏氣。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)，排除漏氣現(xiàn)象。(4)底漆未充分固化。應(yīng)適當(dāng)延長底漆的固化時間。(5)鍍件放氣量太大。應(yīng)進行干燥和封孔處理。真空鍍膜設(shè)備膜層表面光澤暗淡：(1)底漆固化不良或變質(zhì)。應(yīng)適當(dāng)延長底漆的固化時間或更換底漆。(2)濺射時間太長。應(yīng)適當(dāng)縮短。(3)濺射成膜速度太快。應(yīng)適當(dāng)降低濺射電流或電壓。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，有機高分子鍍膜設(shè)備報價，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

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