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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，須先開(kāi)水管，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備銷(xiāo)售，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。

在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。

鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。

酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備多少錢(qián)，并要戴橡皮手套。

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真空鍍膜設(shè)備膜層灰暗及發(fā)黑：(1)真空度低于0.67Pa。應(yīng)將真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氣的純度低于99.9％。應(yīng)換用純度為99.99％的氣。(3)充氣系統(tǒng)漏氣。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)，排除漏氣現(xiàn)象。(4)底漆未充分固化。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)底漆的固化時(shí)間。(5)鍍件放氣量太大。應(yīng)進(jìn)行干燥和封孔處理。真空鍍膜設(shè)備膜層表面光澤暗淡：(1)底漆固化不良或變質(zhì)。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)底漆的固化時(shí)間或更換底漆。(2)濺射時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。(3)濺射成膜速度太快。應(yīng)適當(dāng)降低濺射電流或電壓。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi): 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備報(bào)價(jià)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。

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